使用數(shù)字階梯伏安法測量表面相關(guān)電流
介紹
循環(huán)伏安法(CV)無疑是流行的電化學(xué)技術(shù)。CV因其實(shí)驗(yàn)快速,能夠推斷反應(yīng)機(jī)理,所需儀器價(jià)格相對低廉,而獲得應(yīng)有的良好口碑。自從Nicholson和Shain發(fā)表的常被引用的論文后,該技術(shù)一直是任何電化學(xué)研究的核心。
CV測試是在兩個(gè)給定的電位之間以一定掃描速率進(jìn)行線掃,并測試電流。所選的掃速可從每秒幾微伏到每秒幾百萬伏不等。
自Nicholson和Shain1時(shí)代起,電化學(xué)儀器已經(jīng)發(fā)展起來。當(dāng)前,大多數(shù)制造商(包括Gamry)使用數(shù)字信號發(fā)生器制造數(shù)字化儀器。這些信號發(fā)生器使用可變步長和持續(xù)時(shí)間的階梯信號來近似線性掃描
圖1 階梯信號VS模擬斜坡信
在數(shù)字化儀器發(fā)展早期(1990年代初),就有報(bào)告分析使用階梯信號代替真正斜坡信號2,3,4,5的效果。在階梯伏安法中,電流可在該步驟的各個(gè)點(diǎn)處被采集。其中兩篇報(bào)導(dǎo)2,3調(diào)查并列出了這種采樣時(shí)間選擇的影響。另外一篇報(bào)導(dǎo)建議對施加或記錄的信號使用重度模擬濾波,以消除差異。作者證明,通過選擇適當(dāng)?shù)哪M濾波器,可用階梯信號近似替代斜坡信號,所測得的響應(yīng)信號并沒有受到不利影響。
后來一項(xiàng)研究5應(yīng)用模擬來表明,提供的電位步長足夠小,則階梯信號產(chǎn)生的結(jié)果與線性斜坡信號非常相似。作者除了研究諸如汞齊化和吸附之類的表面結(jié)合反應(yīng)之外,還研究了不同的耦合化學(xué)反應(yīng)機(jī)理,包括EC,CE,ECE等。
在本篇應(yīng)用報(bào)告中,我們研究了使用真實(shí)模擬斜坡信號采集的數(shù)據(jù)與使用不同采樣模式的階梯信號采集的數(shù)據(jù)之間的差異。
實(shí)驗(yàn)
通常,在數(shù)字掃描中,標(biāo)準(zhǔn)慣例是在步驟10的后獲取一個(gè)數(shù)據(jù)點(diǎn)。Gamry稱這種方法為“Fast”模式(見圖2)。這種采樣模式可以區(qū)分任何電容性或表面結(jié)合的反應(yīng)。由電容充電產(chǎn)生的電流或表面結(jié)合產(chǎn)生的法拉第電流,在步驟的開始部分就會衰減,并且不會對測量電流產(chǎn)生影響。
Gamry采用*的采樣方法,“Surface”模式,來消除階梯信號和真實(shí)斜坡信號之間的差異。在“Surface”模式下,在整個(gè)步驟期間一直采樣并取平均值。這樣可以捕獲電容充電電流和表面結(jié)合法拉第電流。
本篇應(yīng)用報(bào)告中的實(shí)驗(yàn),是由Gamry Reference 3000型號的電化學(xué)工作站和PHE軟件包以及VFP600軟件包測的。使用內(nèi)部數(shù)字信號發(fā)生器以及真正的模擬信號發(fā)生器(普林斯頓175型6)進(jìn)行了循環(huán)伏安測試。
圖2 兩種不同采樣模式:每個(gè)步驟的后采一個(gè)點(diǎn)的Fast模式和整個(gè)步驟都在采點(diǎn)的Surface模式
使用Gamry Framework軟件時(shí),所有數(shù)據(jù)都是以100mV/s的掃描速率和3mV的步長采集的。使用Gamry VFP600軟件的模擬信號發(fā)生器時(shí),采樣頻率為33.3Hz。
使用的36 µF電容器是Panasonic7 ECA-1HM330B,3F電容器是NessCap8 ESHSR0003C0-002R7。
在三電極實(shí)驗(yàn)中,使用Dr. Bob型電解池,3mm Pt為工作電極,飽和甘汞電極為參比電極,石墨棒為對電極。
對于H2SO4實(shí)驗(yàn),在浸入1M H2SO4溶液之前,先對Pt工作電極進(jìn)行拋光。
對于K3[Fe(CN)6]實(shí)驗(yàn),使用10mM K3[Fe(CN)6]和0.1M KCl水溶液。
硫酸中的多晶鉑
圖3 使用模擬信號發(fā)生器測得的多晶鉑在硫酸溶液中的CV曲線
稀硫酸中,多晶鉑的CV曲線,會因電流如何被采集而產(chǎn)生截然不同的結(jié)果。圖3中顯示的是使用模擬斜坡信號測得的經(jīng)典的多晶鉑在硫酸中的CV曲線。
圖4 采用Fast模式的階梯信號伏安法測得的多晶鉑在硫酸中的CV曲線,與模擬斜坡信號的結(jié)果對比
循環(huán)伏安曲線中有幾個(gè)不同的區(qū)域。從伏安圖的負(fù)電位端開始,從開始到0.1V這部分是吸附(還原峰)和氫氣的脫附。在0.1V到0.6V之間,沒有法拉第反應(yīng)發(fā)生。第三部分從0.6V9開始是氧化物形成的區(qū)域。氧化鉑(負(fù)電流)的還原發(fā)在電位0.5V。該伏安法已經(jīng)得到充分的研究和理解。尤其是H型吸附區(qū)通常用做推斷Pt電極電化學(xué)活性面積的工具。
通常,在階梯伏安法中,在下一步驟之前立即采一個(gè)電流讀數(shù)。這種采樣方法可以區(qū)分任何電容性或表面結(jié)合反應(yīng)。由任何電容充電或表面結(jié)合產(chǎn)生的法拉第電流在該步驟的開始部分就會衰減,并且不會對測量電流產(chǎn)生影響。因此,如圖4所示,階梯伏安法不能很好的定義氫的吸附區(qū)。
Gamry采用*的采樣模式來消除這種差異。您可以在整個(gè)步驟進(jìn)行采樣并取平均值,而不是在所有電容充電電流和表面結(jié)合電流已衰減的步驟結(jié)束時(shí)對電流進(jìn)行采樣。這樣,可以測量電容和表面結(jié)合產(chǎn)生的電流以及整個(gè)步驟中任何持久效應(yīng)。在Gamry Framework軟件中這種采樣模式被命名為“Surface”模式。在使用Surface模式采樣時(shí),數(shù)據(jù)如圖5所示。
圖5 Surface模式和Fast模式下多晶鉑在硫酸溶液中的CV曲線
后,在Surface模式測得的數(shù)據(jù)上疊加模擬掃描伏安法的數(shù)據(jù),結(jié)果表明,Surface模式能夠正確測量出表面相關(guān)電流,如圖6所示。請注意,為清楚起見,其中一個(gè)圖已偏移3μV。
圖6 Surface模式與模擬掃描的結(jié)果對比
雙電層電容
另一個(gè)必須仔細(xì)研究的階梯伏安法示例是雙電層電容(或一般而言的電容器)的研究。
理想電容器,對施加斜坡信號的響應(yīng)電流是v · C,其中v是掃描速率,C是電容11。串聯(lián)電阻(雜散或有意添加)的影響也可以顯示為局限于初始上升時(shí)間。穩(wěn)態(tài)電流(即使考慮了電阻)也可以很好的測量電容。
基于上一節(jié)中提到的原因,當(dāng)從階梯伏安法計(jì)算電容時(shí),必須注意步驟的高度和長度,而不是系統(tǒng)的時(shí)間常數(shù)。
圖7 電解液電容器的CV曲線
我們用36.2 µF12電容器闡述這個(gè)問題。對于cm2尺寸的電極,其電容值是正確的數(shù)量級。在100mV/s掃速時(shí),該電容器預(yù)期的穩(wěn)態(tài)電流是3.6 µA(36 µF × 0.1 V/s)
圖7將由模擬信號發(fā)生器測得的伏安圖(100mV/s,33.3Hz采樣頻率)和采用經(jīng)典采樣模式的階梯伏安法(100 mV/s, 3 mV 步長)測得的伏安圖進(jìn)行對比。36µF電容器的時(shí)間常數(shù)比實(shí)驗(yàn)中使用的步驟時(shí)間要小幾個(gè)數(shù)量級。因此,階梯伏安法測得的電流遠(yuǎn)低于模擬掃描。
使用Gamry Surface采樣模式可恢復(fù)預(yù)期的3.6 µA,如圖8所示(與圖7相同的硬件設(shè)置)。
圖8 36μF電容的CV曲線。Faso模式和Surface模式的對比
超級電容器和大部分法拉第電流
階梯伏安法與模擬掃描法的區(qū)別不總是很明顯。在本章中,我們將研究兩個(gè)這樣的案例。
圖9 3F電化學(xué)雙電層電容的CV曲線
第一個(gè)例子是電化學(xué)電容。由于電容值較大,電流在階躍后衰減的時(shí)間常數(shù)與階躍持續(xù)時(shí)間相當(dāng)。因此,如圖9所示,模擬掃描和階梯伏安的結(jié)果區(qū)別不明顯。
第二個(gè)例子,我們使用Fe2+/3+氧化還原對。在以法拉第電流為主導(dǎo)的經(jīng)典循環(huán)伏安法實(shí)驗(yàn)中,影響微不足道。如圖10所示,峰電流根本不取決于采樣模式。伏安圖取決于采樣模式的部分是測得的電流是雙電層充電的區(qū)域。在大約-300mV VS SCE時(shí),可以看到由采樣模式引起的差異。
圖10 K3[Fe(CN)6]溶液的循環(huán)伏安圖
結(jié)論
對于許多不同的電化學(xué)測試,可以使用階梯伏安法代替模擬掃描。如果表面結(jié)合的影響很重要(例如H型吸附區(qū)或雙電層電容),則必須要注意步長和持續(xù)時(shí)間的選擇。在這些測量中,采用過采樣和平均來消除使用階梯信號引起的差異。
參考文獻(xiàn)
- Nicholson, R. S. and Shain I. Anal Chem, 36 (1964) 706
- Murphy, M.M.; O’Dea, J.J.; Arn, D.; Osteryoung, J.G., Anal. Chem. 61(1989), 2249
- Murphy, M.M.; O’Dea, J.J.; Arn, D.; Osteryoung, J.G., Anal. Chem. 62(1990), 903
- He,P, Anal. Chem.67(1995) 986
- Bott, A, Current Separations16 (1997), 23
- Will, F. G., Knorr, K. A., Z. Elektrochem., 64 (1960) 258.
- Kissinger, P.T., in “Laboratory Techniques in Electroanalytical Chemistry”, edited by Kissinger, P.T., Heineman, W.R., Marcel & Dekker, NY, 1996.
- Bard, A. J. and Faulkner, L.R. , Electrochemical Methods: Fundamentals and Applications, Wiley, NY, 2001
- The capacitor is labeled 33μF by the manufacturer. The actual capacitance was measured by impedance spectroscopy.